【光電長河人物專訪】突破邊界的勇氣——專訪楊英杰教授
【光電長河人物專訪】突破邊界的勇氣——專訪楊英杰教授
2025-10-09
  自1990年代世界第一個垂直共振腔面射型雷射(VCSEL)誕生以來,科學家和工程師們一直致力於提高其可於室溫連續波(CW)操作,以及高輸出功率(> 1mW)的表現。  與使用絕緣介電質所構建的分佈式布拉格反射器(DBR)之VCSEL共振腔相比,使用半導體所組成的DBR鏡與其上方的簡單頂部金屬接觸層,是VCSEL能夠大量生產的王道結構。然而,半導體DBR鏡內由於DBR層交錯導致的能帶不連續性,使得VCSEL 晶片中存在非常高的微分電阻(通常> 200 W),這導致順偏時VCSEL明顯發熱,從而嚴重限制VCSEL的CW輸出功率,所以在1990 年代VCSEL 的CW 輸出功率通常小於1 mW。  為了克服上述問題,當時在美國洛克希德.馬丁實驗室工作的楊英杰教授(後於臺大電機工程學系擔任教授)發明了一種鋅擴散(Zn-diffusion)的VCSEL結構,該結構利用了鋅擴散製程將原本DBR層中櫛比鱗次的邊界消除(disordered),顯著降低了VCSEL的電阻,並且提升其輸出功率和控制光輸出模態。  楊教授在1991年IEEE DRC會議 [1,2]上首次展示了此元件,證明了850 nm VCSEL可以有超過2mW的連續功率,並具有低臨限電流(Ith)、單模工作的特性。當時這些成果可說是VCSEL最重要的性能突破,在此篇論文中,楊教授也指出VCSEL在光通訊系統中應用的可行性,為世上首批發表此成果的學者。而後如同眾人所知,高速VCSEL在2006年左右開始嶄露頭角,在光互連系統的發展中扮演了至關重要的角色。  楊英杰教授回到臺大電機任教之後,在台灣的學術界繼續鋅擴散VCSEL的研究,他透過優化鋅擴散深度和孔徑尺寸,首次證明850 nm VCESL在其全偏壓電流範圍內(接近Ith直至飽和)能夠實現穩定的單模工作 [3]。在楊教授的努力下,鋅擴散技術也在光電業界開花結果;跟其他VCSEL結構相比,鋅擴散VCSEL有著相當獨特的優點,它不僅可以更進一步降低操作電壓,更能實現單模操作,這也創造出了許多光電業界的新應用,例如:智慧型手機裡面近距離偵測模組(proximity sensor module; PSM)的發射器和雷射滑鼠中的單模光源。  台灣的Truelight(光環)和Unikorn(晶成)半導體公司早已大量採用鋅擴散VCSEL結構,主要用於Apple iPhone和其他品牌智慧型手機的PSM光源應用;它不僅可以克服離子佈植 VCSEL 中通常具有的高電阻根本問題,而且可靠度優於水氧化VCSEL。直至今日,這兩家公司每月生產高達數百萬個Zn-diffusion VCSEL晶片。  除了VCSEL研究,楊教授也突破了「教授」這個工作的框架和邊界,於台灣的民主化運動浪潮中發揮了自己的熱血和勇氣,在那個無線電台和電視台皆為國民黨禁臠的年代,他用自己的專業能力架設了屬於人民的地下民主廣播電台和電視台,藉此將許多真實的聲音和不一樣的觀點傳達給台灣的民眾(包含筆者)知道,有如星火燎原般,在許多人的心中點燃民主的火種,對往後90年代第一次民選的台北市市長選舉,和之後2000年的台灣政黨輪替產生蝴蝶效應的影響力。  我們今天很高興訪問到楊英杰教授,這位為台灣VCSEL發展和電子媒體自由化帶來火種的男人。接下來,就讓我們細聽楊教授的分享。
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